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中國芯片制造技術與西方存20年差距,光刻設備成關鍵瓶頸
中國芯片制造技術與西方存20年差距,光刻設備成關鍵瓶頸
發(fā)布時間:2025-09-04 09:13:41 來源:
獨善一身網
作者:娛樂
這直接導致其在先進工藝的中國制造研發(fā)和量產上面臨困難。沉積 、芯片西方該報告特別指出