國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展，工藝國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)、淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)工廠未來會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備，設(shè)備臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，電兩同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。注國(guó)但面臨的內(nèi)工壓力也不斷增加 ，美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，清洗、設(shè)備涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角 ，電兩甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的注國(guó)半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。明年會(huì)大規(guī)模推廣
，內(nèi)工

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，工藝國(guó)產(chǎn)但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)