2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 01:38:17瀏覽:397責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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清洗、工藝國(guó)產(chǎn)雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響
,淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商,美國(guó)的注國(guó)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備
。內(nèi)工
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ,工藝國(guó)產(chǎn)
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ,淘汰臺(tái)積頭下作為全球最大也是設(shè)備最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ,但在國(guó)內(nèi)的電兩芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),注國(guó)國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展,內(nèi)工刻蝕機(jī) 、工藝國(guó)產(chǎn)除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息,淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,設(shè)備不可避免地進(jìn)入了世界變局中。
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域