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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 02:51:16 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：熱點(diǎn)
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該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的中國(guó)制造情況下
，也是芯片西方目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的存年差距成關(guān)關(guān)鍵作用，中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的光刻技術(shù)差距 。這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，設(shè)備只能采用相對(duì)落后的中國(guó)制造技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片