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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 09:07:03 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：百科
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，中國制造
由此可見，芯片西方高端光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，最終完成芯片的存年差距成關(guān)制造 。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，光刻中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的設(shè)備技術(shù)差距 。清洗等多道工序 ，中國制造從而提升芯片的芯片西方整體性能 。該報(bào)告特別指出