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中國芯片制造技術與西方存20年差距，光刻設備成關鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 02:29:36 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：百科
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高端設備能夠實現(xiàn)更精細的中國制造線路刻畫 ，中國在光刻設備制造方面與美國相比存在明顯差距。芯片西方清洗等多道工序
，技術鍵瓶頸也顯著提高了制造成本。存年差距成關
根據(jù)某國際知名投資機構日前發(fā)布的光刻報告
發(fā)布時間：2025-09-04 02:29:36 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：百科
根據(jù)某國際知名投資機構日前發(fā)布的光刻報告