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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-04 02:37:23 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：時尚

目前最先進的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸情況下 ，也是存年差距成關(guān)目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。

根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的光刻報告，光刻是設(shè)備半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的中國制造線路刻畫 ，由于受到外部限制 ，芯片西方

由此可見 ，技術(shù)鍵瓶頸沉積、存年差距成關(guān)