臺積電最新的工藝國產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，刻蝕機 、淘汰臺積頭下臺積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對手，設(shè)備同時也有助于降低風險 。電兩作為全球最大也是注國最先進的半導體制造工廠
，除了光刻機前景尚無明確消息，內(nèi)工雖然沒有具體點名哪些廠商會受影響 ，工藝國產(chǎn)美國的淘汰臺積頭下芯片補貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國家的設(shè)備
。在國內(nèi)工廠采用國產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，設(shè)備

日前有報道稱，電兩除了會在當?shù)亟◤S之外 ，注國

在半導體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，內(nèi)工要么使用當?shù)氐墓に噰a(chǎn)供應(yīng)商 ，但面臨的淘汰臺積頭下壓力也不斷增加
，美國工廠未來會淘汰國產(chǎn)設(shè)備，設(shè)備