臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,設(shè)備
臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn),國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展 ,注國(guó)臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ,內(nèi)工要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰?guó)產(chǎn)供應(yīng)商 ,刻蝕機(jī)、淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外,電兩
注國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,但面臨的壓力也不斷增加,明年會(huì)大規(guī)模推廣 ,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商 。雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響,
日前有報(bào)道稱,美國(guó)的芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ,
快科技8月31日消息,清洗、
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ,除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息