對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō),工藝國(guó)產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,淘汰臺(tái)積頭下

設(shè)備

2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注	:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

設(shè)備28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。電兩刻蝕機(jī) 、注國(guó)

臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn),但在國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,明年會(huì)大規(guī)模推廣,淘汰臺(tái)積頭下

快科技8月31日消息,設(shè)備除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外,電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商