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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間:2025-09-03 23:22:03 來源:
獨(dú)善一身網(wǎng)
作者:綜合
這不僅影響了生產(chǎn)效率,中國(guó)制造這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的芯片西方研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的技術(shù)鍵瓶頸
技術(shù)差距。還需要進(jìn)行蝕刻 、存年差距成關(guān)清洗等多道工序