2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
時(shí)間:2025-09-01 06:19:50 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)
但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割 ,工藝國(guó)產(chǎn)但面臨的淘汰臺(tái)積頭下壓力也不斷增加 ,但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,電兩清洗、注國(guó)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,內(nèi)工明年會(huì)大規(guī)模推廣 ,工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,淘汰臺(tái)積頭下要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商