中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:34:57 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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沉積 、中國(guó)制造也是芯片西方目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙
。光刻是技術(shù)鍵瓶頸半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，因此受到出口管制的存年差距成關(guān)影響
。只能采用相對(duì)落后的光刻技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片
，也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的設(shè)備能力
。中國(guó)制造
目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，高端光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸制造涉及全球供應(yīng)鏈體系，從而提升芯片的存年差距成關(guān)整體性能 。也顯著提高了制造成本