同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。工藝國產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國內(nèi)廠商切割，淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的設(shè)備半導(dǎo)體供應(yīng)商，除了光刻機(jī)前景尚無明確消息，電兩除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外，注國不可避免地進(jìn)入了世界變局中。內(nèi)工28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)