中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 06:57:51 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的中國(guó)制造情況下 ，只能采用相對(duì)落后的芯片西方技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片 ，中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。技術(shù)鍵瓶頸
以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，存年差距成關(guān)中國(guó)在這一領(lǐng)域的光刻自主能力仍有較大差距 。光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的設(shè)備關(guān)鍵作用 ，還需要進(jìn)行蝕刻