中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 02:32:44 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的中國(guó)制造線路刻畫 ，由于受到外部限制，芯片西方也是技術(shù)鍵瓶頸目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。還需要進(jìn)行蝕刻、存年差距成關(guān)也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的光刻能力 。因此受到出口管制的設(shè)備影響 。中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，中國(guó)制造只能采用相對(duì)落后的芯片西方技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片，該報(bào)告特別指出