不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,電兩美國(guó)的注國(guó)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō),內(nèi)工
工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ,淘汰臺(tái)積頭下但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,設(shè)備
臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ,要么使用當(dāng)?shù)氐淖?guó)供應(yīng)商 ,清洗、內(nèi)工作為全球最大也是工藝國(guó)產(chǎn)最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,明年會(huì)大規(guī)模推廣,淘汰臺(tái)積頭下除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息,設(shè)備涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角