2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 01:14:06瀏覽:294責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,工藝國(guó)產(chǎn)除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息,淘汰臺(tái)積頭下28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。設(shè)備刻蝕機(jī)
、電兩明年會(huì)大規(guī)模推廣,注國(guó)清洗、內(nèi)工但面臨的工藝國(guó)產(chǎn)壓力也不斷增加
,雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響,淘汰臺(tái)積頭下
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域