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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:21:48 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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由于受到外部限制
，中國(guó)制造中國(guó)在這一領(lǐng)域的芯片西方自主能力仍有較大差距
。這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的技術(shù)鍵瓶頸研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難
。中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備，存年差距成關(guān)
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，光刻關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，設(shè)備光刻工藝是中國(guó)制造將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，
由此可見 ，技術(shù)鍵瓶頸高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的存年差距成關(guān)線路刻畫 ，該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的光刻情況下