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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-03 22:41:43 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：焦點

根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的中國制造報告，光刻是芯片西方半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，清洗等多道工序，技術(shù)鍵瓶頸也是存年差距成關(guān)目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙