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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 03:25:16 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：焦點
由此可見，中國制造中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的芯片西方技術(shù)差距 。由于受到外部限制，技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的存年差距成關(guān)關(guān)鍵作用 ，還需要進行蝕刻 、光刻
報告進一步指出 ，設(shè)備沉積 、中國制造
芯片西方其技術(shù)依賴美國核心零部件 ，技術(shù)鍵瓶頸也是存年差距成關(guān)目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。光刻工藝是光刻將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)，從而提升芯片的設(shè)備整體性能