2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠(chǎng)不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:22:51瀏覽:762責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角
,工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠(chǎng)商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,設(shè)備在國(guó)內(nèi)工廠(chǎng)采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,電兩明年會(huì)大規(guī)模推廣