2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:37:18瀏覽:895責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,工藝國(guó)產(chǎn)
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),淘汰臺(tái)積頭下不可避免地進(jìn)入了世界變局中。設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商 ,作為全球最大也是注國(guó)最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,內(nèi)工臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。設(shè)備
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注