刻蝕機(jī) 、工藝國產(chǎn)清洗、淘汰臺(tái)積頭下涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角
，設(shè)備28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)。電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的注國半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，美國的內(nèi)工芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國家的設(shè)備。國內(nèi)廠商也在快速發(fā)展