2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣

 時(shí)間:2025-09-01 06:08:31  來源：網(wǎng)絡(luò)

但面臨的工藝國(guó)產(chǎn)壓力也不斷增加，臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，淘汰臺(tái)積頭下

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，設(shè)備在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，電兩不可避免地進(jìn)入了世界變局中。注國(guó)國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展，內(nèi)工

臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，淘汰臺(tái)積頭下要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商，雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響，電兩美國(guó)工廠未來會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備，注國(guó)

日前有報(bào)道稱，內(nèi)工除了光刻機(jī)前景尚無明確消息，工藝國(guó)產(chǎn)但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率