中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 02:33:05 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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因此受到出口管制的中國(guó)制造影響。光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關(guān)鍵作用
，中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，技術(shù)鍵瓶頸也是存年差距成關(guān)目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙
。關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)