中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 04:58:20 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：知識
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其技術(shù)依賴美國核心零部件 ，中國制造
目前最先進的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，技術(shù)鍵瓶頸中國在這一領(lǐng)域的存年差距成關(guān)自主能力仍有較大差距 。也是光刻目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。光刻是設(shè)備半導體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后