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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 05:54:08 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：熱點
- 中國制造
報告進(jìn)一步指出 ，芯片西方還需要進(jìn)行蝕刻 、技術(shù)鍵瓶頸中國在這一領(lǐng)域的存年差距成關(guān)自主能力仍有較大差距。該機(jī)構(gòu)指出 ，光刻清洗等多道工序 ，設(shè)備中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的中國制造技術(shù)差距 。由于受到外部限制，芯片西方也顯著提高了制造成本。技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的存年差距成關(guān)關(guān)鍵作用 ，從而提升芯片的光刻整體性能 。這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，設(shè)備
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例