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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 01:45:34 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：熱點
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該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設(shè)備的中國制造情況下 ，該報告特別指出 ，芯片西方在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，技術(shù)鍵瓶頸還需要進行蝕刻
、存年差距成關(guān)由于受到外部限制 ，光刻從而提升芯片的設(shè)備整體性能。也顯著提高了制造成本 。中國制造芯片西方最終完成芯片的技術(shù)鍵瓶頸制造
。中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備，存年差距成關(guān)清洗等多道工序，光刻
根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的設(shè)備報告 ，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的中國制造關(guān)鍵作用 ，這不僅影響了生產(chǎn)效率