日前有報(bào)道稱
，工藝國產(chǎn)臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，淘汰臺(tái)積頭下清洗、設(shè)備

電兩

電兩美國工廠未來會(huì)淘汰國產(chǎn)設(shè)備 ，注國28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn) 。內(nèi)工作為全球最大也是工藝國產(chǎn)最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠，

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，國內(nèi)廠商也在快速發(fā)展
，設(shè)備明年會(huì)大規(guī)模推廣，電兩除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外，注國甚至還有全國產(chǎn)化的內(nèi)工半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。除了光刻機(jī)前景尚無明確消息，工藝國產(chǎn)

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國 ，淘汰臺(tái)積頭下

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ，設(shè)備但在國內(nèi)的芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率