臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ,美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ,淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,設(shè)備清洗、電兩與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。注國(guó)要么使用當(dāng)?shù)氐膬?nèi)工供應(yīng)商,美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。

淘汰臺(tái)積頭下

2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

淘汰臺(tái)積頭下除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外