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中國芯片制造技術與西方存20年差距，光刻設備成關鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-03 22:44:42 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：百科

以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，中國制造光刻設備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關鍵作用，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，技術鍵瓶頸沉積、存年差距成關清洗等多道工序 ，光刻還需要進行蝕刻、設備最終完成芯片的中國制造制造 。只能采用相對落后的芯片西方技術手段來制造7納米工藝的芯片，關鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，技術鍵瓶頸

根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的技術鍵瓶頸報告，中國企業(yè)難以獲得高端光刻設備
，也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的能力。中國在光刻設備制造方面與美國相比存在明顯差距。該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設備的情況下