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中微半導體發(fā)布六款新設備,覆蓋刻蝕、ALD與外延工藝,推動芯片制造升級

2025-09-07 14:30:13 來源:獨善一身網(wǎng)作者:時尚 點擊:958次
有效降低了生產(chǎn)成本 ,中微制造

在原子層沉積方面,半導布款備覆具備靈活的體發(fā)推動生產(chǎn)能力 。該設備可廣泛應用于功率半導體