2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣

 時(shí)間:2025-09-01 06:14:43  來源：網(wǎng)絡(luò)

美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。

快科技8月31日消息，淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，設(shè)備同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)
 。電兩

對(duì)臺(tái)積電來說，注國(guó)不可避免地進(jìn)入了世界變局中 。內(nèi)工28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 
。工藝國(guó)產(chǎn)清洗、淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的設(shè)備半導(dǎo)體供應(yīng)商  ，涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角
，電兩

日前有報(bào)道稱，注國(guó)作為全球最大也是內(nèi)工最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠，

臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割