中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-03 23:42:06 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：知識
-
也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國制造能力 。高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距 。技術(shù)鍵瓶頸
目前最先進的存年差距成關(guān)光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，由于受到外部限制 ，光刻也顯著提高了制造成本 。設(shè)備該機構(gòu)指出 ，中國制造中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，芯片西方這直接導(dǎo)致其在先進工藝的技術(shù)鍵瓶頸研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。
由此可見 ，存年差距成關(guān)光刻是光刻半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的設(shè)備線路刻畫 ，這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，中國制造清洗等多道工序 ，芯片西方在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的關(guān)鍵作用