臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商，

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商，但在國(guó)內(nèi)的注國(guó)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率，

快科技8月31日消息，內(nèi)工同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)
。工藝國(guó)產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割