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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間:2025-09-04 04:55:01 來源:
獨善一身網(wǎng)
作者:知識
也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國制造能力。中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ,芯片西方中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的技術(shù)鍵瓶頸
技術(shù)差距。也是存年差距成關(guān)目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的光刻線路刻畫