日前有報(bào)道稱,設(shè)備
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商,除了光刻機(jī)前景尚無明確消息,內(nèi)工要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰?guó)產(chǎn)供應(yīng)商