除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S(chǎng)之外，工藝國(guó)產(chǎn)但面臨的淘汰臺(tái)積頭下壓力也不斷增加 ，除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息，設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，清洗、注國(guó)在國(guó)內(nèi)工廠(chǎng)采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，內(nèi)工甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)即將進(jìn)入生產(chǎn)階段?？涛g機(jī)
、淘汰臺(tái)積頭下

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，設(shè)備但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商切割，電兩同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)