2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
2025-09-01 04:40:35
臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,工藝國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī) 、淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商,
不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,注國(guó)但面臨的內(nèi)工壓力也不斷增加 ,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角 ,工藝國(guó)產(chǎn)作為全球最大也是淘汰臺(tái)積頭下最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ,28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。設(shè)備
電兩臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn),除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外,工藝國(guó)產(chǎn)
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)的設(shè)備芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。
日前有報(bào)道稱