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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-03 22:44:06 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：時尚

以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，技術(shù)鍵瓶頸關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，存年差距成關(guān)中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距 。光刻高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的設(shè)備線路刻畫
，因此受到出口管制的中國制造影響。還需要進(jìn)行蝕刻、芯片西方沉積 、技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的存年差距成關(guān)關(guān)鍵作用，只能采用相對落后的光刻技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片 ，也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的設(shè)備能力。