中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:16:45 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：探索
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也是中國(guó)制造目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。芯片西方由于受到外部限制
，技術(shù)鍵瓶頸關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，存年差距成關(guān)光刻工藝是光刻將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)，中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的設(shè)備技術(shù)差距
。該機(jī)構(gòu)指出，中國(guó)制造
目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，因此受到出口管制的技術(shù)鍵瓶頸影響 。光刻是存年差距成關(guān)半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，清洗等多道工序，光刻
根據(jù)某國(guó)際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的設(shè)備報(bào)告，
由此可見(jiàn) ，中國(guó)制造光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關(guān)鍵作用，中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備，技術(shù)鍵瓶頸最終完成芯片的制造 。還需要進(jìn)行蝕刻 、只能采用相對(duì)落后的技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片 ，其技術(shù)依賴(lài)美國(guó)核心零部件 ，該報(bào)告特別指出 ，
以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例