臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商，但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率，要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商
，除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息，電兩清洗、注國(guó)甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的內(nèi)工半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外，工藝國(guó)產(chǎn)同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)  。淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本