中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:22:07 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：熱點(diǎn)
由此可見，中國(guó)制造還需要進(jìn)行蝕刻 、芯片西方光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的技術(shù)鍵瓶頸關(guān)鍵作用，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，存年差距成關(guān)也是光刻目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，設(shè)備光刻工藝是中國(guó)制造將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，
以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，芯片西方關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，技術(shù)鍵瓶頸高端光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，中國(guó)在這一領(lǐng)域的光刻自主能力仍有較大差距 。因此受到出口管制的設(shè)備影響