中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 02:56:41 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：綜合
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該報(bào)告特別指出 ，中國(guó)制造這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的芯片西方研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，技術(shù)鍵瓶頸只能采用相對(duì)落后的存年差距成關(guān)技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片
，該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的光刻情況下
，這不僅影響了生產(chǎn)效率