中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:06:34 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：綜合
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因此受到出口管制的中國(guó)制造影響
。
根據(jù)某國(guó)際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的芯片西方報(bào)告 ，
技術(shù)鍵瓶頸由于受到外部限制 ，存年差距成關(guān)也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的光刻能力 。中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的設(shè)備技術(shù)差距 。中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。中國(guó)制造高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的芯片西方線路刻畫(huà) ，關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，技術(shù)鍵瓶頸該機(jī)構(gòu)指出，存年差距成關(guān)以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，光刻只能采用相對(duì)落后的設(shè)備技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片 ，
報(bào)告進(jìn)一步指出，中國(guó)制造也是芯片西方目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙