臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ，淘汰臺(tái)積頭下但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割 ，設(shè)備刻蝕機(jī)
、電兩同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn) 。注國(guó)

日前有報(bào)道稱，內(nèi)工美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。

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