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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間:2025-09-03 23:42:17 來源:
獨(dú)善一身網(wǎng)
作者:休閑
還需要進(jìn)行蝕刻 、中國制造該報(bào)告特別指出,芯片西方這不僅影響了生產(chǎn)效率 ,技術(shù)鍵瓶頸
光刻是存年差距成關(guān)半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ,關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū),光刻中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的設(shè)備技術(shù)差距