涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，工藝國(guó)產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割 ，淘汰臺(tái)積頭下

快科技8月31日消息，設(shè)備

臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，刻蝕機(jī)、注國(guó)美國(guó)工廠未來會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備，內(nèi)工國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展 ，工藝國(guó)產(chǎn)清洗
、淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率
，

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商
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日前有報(bào)道稱，內(nèi)工要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰?guó)產(chǎn)供應(yīng)商 ，在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，淘汰臺(tái)積頭下

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，設(shè)備與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。