2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:19:54瀏覽:725責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn),刻蝕機(jī)、淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,
日前有報(bào)道稱,電兩美國(guó)工廠未來會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備